硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控 制的XY工作臺，使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。品牌屬于Thetametrisis。

Thetametrisis利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進行測量。

【相關應用】

1.高校 & 研究所實驗室

2.半導體制造

3.(氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)

4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)

5.LEDs, VCSELs

6.數(shù)據(jù)存儲

7.陽極處理

8.曲面基底的硬鍍及軟鍍

9.聚合物膜層, 粘合劑

10.生物醫(yī)學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)

11.還有許多…

【Thetametrisis膜厚儀特點】

1、實時光譜測量

2、薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量， 厚度映射

3、使用集成的，USB連接高品質彩色攝像機進行成像

【Thetametrisis膜厚儀產(chǎn)品優(yōu)勢】

1、單擊即可分析 (無需初始預測)

2、動態(tài)測量

3、包含光學參數(shù) (n & k, color)

4、可保存測量演示視頻錄像

5、超過 600 種不同材料o 多個離線分析配套裝置o 免費操作軟件升級

【技術參數(shù)】

*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關

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【工作原理】

*規(guī)格如有更改，恕不另行通知, 測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續(xù) 15 天測量的標準方差平均值。樣品：1um SiO2 on Si., 100 次厚度測量的標準方差，樣品：1um SiO2 on Si.

*超過 15 天的標準偏差日平均值樣品：1um SiO2 on Si。

以上資料來自Thetametrisis，如果有需要更加詳細的信息，請聯(lián)系我們獲取。